超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一著超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一著北京内容简介光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例，这些实例都是经过生产实际验证的，希望能对读者有所启发。本书可供高等院校的高年级本科生和研究生、集成电路设计和制造人员、微纳器件研发和制造工程师参考。图书在版编目(CIP)数据超大规模集成电路先进光刻理论与应用/韦亚一著.一北京：科学出版社，2016.51SBN978-7-03-048268-61.①超…Ⅱ.①韦…Ⅲ.①超大规模集成电路一光刻系统研究IV.①TN305.7中国版本图书馆CP数据核字(2016)第100705号责任编辑：王哲/责任校对：桂伟利责任印制：张倩/封面设计：迷底书装北京东黄城根北街16号邮政编码：100717http://www.sciencep.com科学出版社发行各地新华书店经销2016年6月第一版开本：720×10001/162016年6月第一次印刷印张：36插贞：20字数：780000定价：260.00元(如有印装质量问题，我社负责调换)