通过高NA浸没显微镜进行聚焦

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lucas 发表于 3 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式
摘要

在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。


场景



在VirtualLab Fusion中构建系统

系统构建块




组件求解器





系统构建块



总结



几何光学仿真
通过光线追迹

结果:光线追迹



快速物理光学仿真
通过场追迹

在盖玻片的最后一个界面之前聚焦



聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方



在盖玻片的最后一个界面之前聚焦



聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方



总结



文件信息



更多阅览
- Debye-Wolf Integral Calculator
- Analyzing High-NA Objective Lens
- Resolution Investigation for Microscope Objective Lenses by Rayleigh Criterion


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